助研 PECVD ZYE-1200-PE 在薄膜材料制备中具有显著的科研应用价值，可实现高质量、可重复的薄膜生长。其等离子化学气相沉积系统支持低温工艺与精确参数控制，提升PECVD薄膜沉积均匀性与稳定性。设备广泛适用于半导体薄膜制备、光电功能材料研究及新型材料表面改性等领域。助研品牌在科研设备领域经验丰富，产品以高可靠性PECVD实验设备和完善技术支持赢得用户信赖。
产品特点：
1.为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种 CVD 称为等离子体增强化学气相沉积法 (PECVD)；
2.它是由 500W 射频电源、1200℃单温区管式炉、三通道质量流量混气系统和真空系统组成；
3.此款 PECVD 系统用于生长纳米线、石墨烯或 SIC 薄膜等。
| 参数名称 | 规格说明 |
| 配制炉管尺寸 | Φ50（外）x1200mm（其他可定制） |
| 炉膛尺寸 | Φ80x280mm |
| 工作电压 | 单相 AC220V，50/60Hz |
| 工作温度 | 最高温度: 1200℃ (使用时必须通入惰性气体以防止炉管发生形变) 工作温度: 1100℃ 推荐升温速率:≤ 10℃ /min |
| 加热区 | 加热区长度: 220mm 恒温区长度: 60-80mm (±3℃） |
| 加热元件 | 北京首钢 HRE |
| 最大功率 | 3kw |
| 控制方式 | PID 控制和自整定调节功能智能化 30 段可编程控制具有超温及断偶报警功能 K 型热电偶可安 装 PC 控制软件对数据进行实时采集（需另购） |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 密封系统 | 不锈钢密封法兰(包括 316L 针阀、真空机械压力表、软管接头) |
| 供气系统 | 三路高精度 MFC 量程 0-500sccm（按客户需求定） |
| 射频电源 | 射频功率：5-500W 射频频率：13.56MHz 匹配方式：自动匹配 |
| 真空系统 | 双级旋片真空泵（可定制扩散泵、分子泵等） |
| 设备外形尺寸 | 1600x600x1200mm |
产品咨询
咨询热线：400-660-8812
邮箱：hrkes01@163.com
电话：0551-66010612
地址：安徽省合肥市高新区中国（安徽）自由贸易试验区创新大道2800号
